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Enhanced-inductively coupled plasma(E-ICP)를 이용한 silylated photoresist 식각공정개발 = (The)development of silylated photoresist etch process by enhanced-inductively coupled plasma
표제/저자사항 Enhanced-inductively coupled plasma(E-ICP)를 이용한 silylated photoresist 식각공정개발 = (The)development of silylated photoresist etch process by enhanced-inductively coupled plasma / 조수범, 김진우, 정재성, 오범환, 박세근, 이종근
형태사항 p. 227-232: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.15 no.3(2002년 3월), p. 227-232 15:3<227 ISSN 1226-7945
저자: 조수범, 인하대학교 전자재료공학과 E-MAIL: obh@inha.ac.kr
저자: 김진우, 인하대학교 전자재료공학과
저자: 정재성, 인하대학교 전자재료공학과
저자: 오범환, 인하대학교 전자재료공학과
저자: 박세근, 인하대학교 전자재료공학과
저자: 이종근, (주)A.S.E
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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