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선택적인 다공질 실리콘 에칭법을 이용한 압저항형 실리콘 가속도센서의 제조 = Fabrication of piezoresistive silicon acceleration sensor using selectively porous silicon etching method
표제/저자사항 선택적인 다공질 실리콘 에칭법을 이용한 압저항형 실리콘 가속도센서의 제조 = Fabrication of piezoresistive silicon acceleration sensor using selectively porous silicon etching method / 심준환, 김동기, 조찬섭, 태흥식, 함성호, 이종현
형태사항 p. 21-29; 26 cm
주기사항 수록자료: 센서학회지. 한국센서학회. 5권 5호(1996년 9월), p. 21-29 5:5<21 상세보기 ISSN 1225-5475
저자: 심준환, 경북대학교 전자·전기공학부
저자: 김동기, 경북대학교 전자·전기공학부
저자: 조찬섭, 국립상주산업대 전자·전기공학과
저자: 태흥식, 경북대학교 전자·전기공학부
저자: 함성호, 경북대학교 전자·전기공학부
저자: 이종현, 경북대학교 전자·전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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