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반응표면분석을 통한 SU-8 포토레지스트의 특성 및 최적화 = Statistical characterization and optimization of SU-8 photoresist processing by response surface methodology
표제/저자사항 반응표면분석을 통한 SU-8 포토레지스트의 특성 및 최적화 = Statistical characterization and optimization of SU-8 photoresist processing by response surface methodology / 李晟準, 文世泳, 朴宰賢, 洪尙眞
형태사항 p. 82-85 ; 27 cm
주기사항 수록자료: 産業技術硏究所論文集. 명지대학교 산업기술연구소. 25집(2006), p. 82-85 25<82 상세보기
저자: 이성준, 석사, 명지대 공대 전자공학과 석사과정
저자: 문세영, 학사, 명지대 공대 전자공학과 학사과정
저자: 박재현, 교수, 명지대 공대 전자공학과 교수
저자: 홍상진, 교수, 명지대 공대 전자공학과 교수
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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