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반응성 스퍼터링법으로 증착된 Co
반응성 스퍼터링법으로 증착된 Co$$N_X$$ 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi₂ 성장 연구 = Epitaxial growth of CoSi₂ layer on (100)Si substrate using Co$$N_X$$ interlayer deposited by reactive sputtering
표제/저자사항
반응성 스퍼터링법으로 증착된 Co$$N_X$$ 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi₂ 성장 연구 = Epitaxial growth of CoSi₂ layer on (100)Si substrate using Co$$N_X$$ interlayer deposited by reactive sputtering / 이승렬, 김선일, 안병태
형태사항
p. 30-36 ; 30 cm
주기사항
수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 16권 1호(2006년 1월), p. 30-36 16:1<30 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 이승렬, 한국과학기술원 신소재공학과
저자: 김선일, 한국과학기술원 신소재공학과
저자: 안병태, 한국과학기술원 신소재공학과 E-MAIL: btahn@kaist.ac.kr
저자: 이승렬, 한국과학기술원 신소재공학과
저자: 김선일, 한국과학기술원 신소재공학과
저자: 안병태, 한국과학기술원 신소재공학과 E-MAIL: btahn@kaist.ac.kr
출처
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MARC 보기
001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
