00761na  a2200181   4500001001300000005001500013008004100028024002700069035002700096100002600123370004800149372005300197373007800250374005700328377001400385670010900399670007100508KAC2018H420320211116102635180927 b aznnnaabn          fa aaa      7 a00000004738301522isni  a(KISTI)ADPER68017973871 a정진용,g鄭鎭用  c한국(국명)[韓國]0KSH20000101452nlsh  a재료 공학[材料工學]0KSH19980184182nlsh  a군산대학교 신소재공학과, 플라즈마 소재 응용 센터PMRC  a연구원(연구자)[硏究員]0KSH19980377142nlsh  l한국어  a300 mm wafer 용 ICP dry etcher의 진공 부품(TMP, RGA) 손상 원인 분석, (群山大學校), 2018  a한국과학기술정보연구원(KISTI)uhttps://www.kisti.re.kr/