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RF 스퍼터링법에 의한 (S$$r_{1-x}$$< / TEX>C$$a_x$$< / TEX>)TiO₃ 세라믹 박막의 미세구조 및 유전특성 = Microstructure and dielectric properties of (S$$r_{1-x}$$< / TEX>C$$a_x$$< / TEX>)TiO₃ ceramic thin film by RF sputtering method
표제/저자사항 RF 스퍼터링법에 의한 (S$$r_{1-x}$$< / TEX>C$$a_x$$< / TEX>)TiO₃ 세라믹 박막의 미세구조 및 유전특성 = Microstructure and dielectric properties of (S$$r_{1-x}$$< / TEX>C$$a_x$$< / TEX>)TiO₃ ceramic thin film by RF sputtering method / 김진사, 오재한, 이준웅
형태사항 p. 984-989: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.11 no.11(1998년 11월), p. 984-989 11:11<984 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 김진사, 광운대학교 공대 전기공학과 E-MAIL: Joonung@daisy.kwangwoon.ac.kr
저자: 오재한, 성화대학 전기과
저자: 이준웅, 광운대학교 공대 전기공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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