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스퍼터링 방법에 의한 AIN / Si(111)의 성장 방향과 표면 거칠기의 성장 시간에 대한 연구 = Evolution of growth orientation and surface roughness during sputter growth of AIN / Si(111)
표제/저자사항 스퍼터링 방법에 의한 AIN / Si(111)의 성장 방향과 표면 거칠기의 성장 시간에 대한 연구 = Evolution of growth orientation and surface roughness during sputter growth of AIN / Si(111) / 이민수, 이현휘, 서선희, 노도영
형태사항 p. 237-241: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 3호(1998년 8월), p. 237-241 7:3<237 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 이민수, 광주과학기술원 신소재공학과 및 전자재료연구센터
저자: 이현휘, 광주과학기술원 신소재공학과 및 전자재료연구센터
저자: 서선희, 광주과학기술원 신소재공학과 및 전자재료연구센터
저자: 노도영, 광주과학기술원 신소재공학과 및 전자재료연구센터
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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