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자장강화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 산화막 식각에 대한 연구 = (A)study on the oxide etching using multi-dipole type magnetically enhanced inductively coupled plasmas
표제/저자사항 자장강화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 산화막 식각에 대한 연구 = (A)study on the oxide etching using multi-dipole type magnetically enhanced inductively coupled plasmas / 안경준, 김현수, 우형철, 유지범, 염근영
형태사항 p. 403-409: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 4호(1998년 11월), p. 403-409 7:4<403 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 안경준, 성균관 대학교 재료공학과
저자: 김현수, 성균관 대학교 재료공학과
저자: 우형철, 코리아 바큠테크(주)
저자: 유지범, 성균관 대학교 재료공학과
저자: 염근영, 성균관 대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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