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Co / Si 시스템에서 capping layer에 따른 코발트 실리사이드 박막의 형성에 관한 연구 = (A)study on the formation of cobalt silicide thin films in Co / Si systems with different capping layers
표제/저자사항 Co / Si 시스템에서 capping layer에 따른 코발트 실리사이드 박막의 형성에 관한 연구 = (A)study on the formation of cobalt silicide thin films in Co / Si systems with different capping layers / 김해영, 김상연, 고대홍, 최철준, 김철성, 구자흠, 최시영, Kazuyuki Fujihara강호규
형태사항 p. 335-340: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 9권 4호(2000년 12월), p. 335-340 9:4<335 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김해영, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 김상연, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 고대홍, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 최철준, 삼성전자 반도체연구소
저자: 김철성, 삼성전자 반도체연구소
저자: 구자흠, 삼성전자 반도체연구소
저자: 최시영, 삼성전자 반도체연구소
저자: Kazuyuki Fujihara, 삼성전자 반도체연구소
저자: 강호규, 삼성전자 반도체연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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