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Trimethyl-indium 소스 고갈에 따른 InGaAsP 에피층의 특성 변화 = Effect of trimethyl-indium source depletion on InGaAsP epilayer grown by MOCVD
표제/저자사항 Trimethyl-indium 소스 고갈에 따른 InGaAsP 에피층의 특성 변화 = Effect of trimethyl-indium source depletion on InGaAsP epilayer grown by MOCVD / 김현수, 오대곤, 편광의, 최인훈
형태사항 p. 400-405: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 9권 4호(2000년 12월), p. 400-405 9:4<400 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김현수, 고려대학교 재료공학과
저자: 오대곤, 한국전자통신연구원 정보통신원천기술연구소
저자: 편광의, 한국전자통신연구원 정보통신원천기술연구소
저자: 최인훈, 고려대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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