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CF₄ / O₂ 식각 가스계를 사용한 텅스텐 박막의 건식 식각 연구 = Dry etching of tungsten films in CF₄ / O₂ gas system
표제/저자사항 CF₄ / O₂ 식각 가스계를 사용한 텅스텐 박막의 건식 식각 연구 = Dry etching of tungsten films in CF₄ / O₂ gas system / 권성구, 남철우, 우성일
형태사항 p. 675-682: 삽도; 29 cm
주기사항 수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 31권 6호(1993년 12월), p. 675-682 31:6<667 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 권성구, Hyundai Electronics Industries Co., Ltd., Semiconductor Research & Development Lab.
저자: 남철우, 한국과학기술원 화학공학과
저자: 우성일, 한국과학기술원 화학공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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