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무수 불화수소와 메탄올의 기상식각에 의한 실리콘 표면 미세 가공 = Silicon surface micro-machining by anhydrous HF gas-phase etching with methanol
표제/저자사항 무수 불화수소와 메탄올의 기상식각에 의한 실리콘 표면 미세 가공 = Silicon surface micro-machining by anhydrous HF gas-phase etching with methanol / 장원익, 최창억, 이창승, 홍윤식, 이종현, 백종태, 김보우
형태사항 p. 73-82; 26 cm
주기사항 수록자료: 센서학회지. 한국센서학회. 7권 1호(1998년 1월), p. 73-82 7:1<73 상세보기 ISSN 1225-5475
저자: 장원익, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 최창억, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 이창승, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 홍윤식, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 이종현, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 백종태, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 김보우, 한국전자통신연구원 반도체연구단
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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