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표면 활성화 처리가 비정질 규소 박막의 결정화에 미치는 영향 = (The)effect of the surface activation treatment on the crystallization of amorphous silicon thin film
표제/저자사항 표면 활성화 처리가 비정질 규소 박막의 결정화에 미치는 영향 = (The)effect of the surface activation treatment on the crystallization of amorphous silicon thin film / 이의석, 김영관
형태사항 p. 173-179; 29 cm
주기사항 수록자료: Journal of the Korean crystal growth and crystal technology. 韓國結晶成長學會. 9권 2호(1999년 4월), p. 173-179 9:2<173 상세보기 ISSN 1225-1429
저자: 이의석, 인천대학교 재료공학과
저자: 김영관, 인천대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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