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LPCVD법으로 증착된 비정질 씰리콘 박막의 저온 열처리 및 이온주입이 고상결정화에 미치는 효과에 관한 연구 = (A)study on the effect of low temperature anneal and ion implantation on crystallization of amorphous silicon film grown by LPCVD
표제/저자사항 LPCVD법으로 증착된 비정질 씰리콘 박막의 저온 열처리 및 이온주입이 고상결정화에 미치는 효과에 관한 연구 = (A)study on the effect of low temperature anneal and ion implantation on crystallization of amorphous silicon film grown by LPCVD / 최진호, 노재상
형태사항 p. 841-879; 26 cm
주기사항 수록자료: 科學技術硏究 論文集-弘益大學校. 弘益大學校 出版部. 제5집(1995년 2월), p. 841-879 5<841 상세보기
저자: 최진호, 현대 중공업 중앙 연구소 연구원
저자: 노재상, 공과대학 금속·재료 공학과 조교수
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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