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저저항 SALICIDE gate 공정 개발 연구 = (A)study on the development of low resistant SALICIDE gate process
표제/저자사항 저저항 SALICIDE gate 공정 개발 연구 = (A)study on the development of low resistant SALICIDE gate process / 김은하, 최효직, 고대홍
형태사항 p. 103-108; 26 cm
주기사항 수록자료: 논문집-연세대학교 산업기술연구소. 연세대학교 산업기술연구소. 31집 2권(1999년 12월), p. 103-108 31:2<103 상세보기
저자: 김은하, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 최효직, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 고대홍, 연세대학교 세라믹공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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