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반응성 이온 증착법에 의한 타이타늄 질화물 피막의 구조 및 성질에 미치는 기판온도와 질소압력의 영향 = Effects of substrate temperature and N₂pressure on the properties and structure of titanium nitride deposits by reactive ion plating
표제/저자사항 반응성 이온 증착법에 의한 타이타늄 질화물 피막의 구조 및 성질에 미치는 기판온도와 질소압력의 영향 = Effects of substrate temperature and N₂pressure on the properties and structure of titanium nitride deposits by reactive ion plating / 韓鳳熙, 高大弘
형태사항 p. 1152-1158; 30 cm
주기사항 수록자료: 대한금속학회지. 大韓金屬學會. 제24권 10호(1986년 10월), p. 1152-1158 24:10<1152 상세보기 ISSN 0253-3847
저자: 한봉희, 서울대학교 공과대학 금속공학과
저자: 고대홍, 서울대학교 공과대학 금속공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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