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Megasonic wave를 이용한 실리콘 이방성 습식 식각의 특성 개선 = (The)improved characteristics of wet anisotropic etching of Si with megasonic wave
표제/저자사항 Megasonic wave를 이용한 실리콘 이방성 습식 식각의 특성 개선 = (The)improved characteristics of wet anisotropic etching of Si with megasonic wave / 제우성, 석창길
형태사항 p. 81-86; 26 cm
주기사항 수록자료: 마이크로전자 및 패키징학회지. 한국마이크로전자 및 패키징학회. 11권 4호(2004년 12월), p. 81-86 11:4<81 상세보기 ISSN 1226-9360
저자: 제우성, 동명정보대학교, 메카트로닉스 공학과 E-MAIL: wsche@tit.ac.kr
저자: 석창길, (주) 울텍
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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