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FBAR 필터 응용을 위한 A1 하부전극 상에서 ZnO 박막 증착 및 온도가 ZnO 결정의 성장에 미치는 영향 = ZnO film deposition on aluminum bottom electrode for FBAR filter applications and effects of deposition temperature on ZnO crystal growth
표제/저자사항 FBAR 필터 응용을 위한 A1 하부전극 상에서 ZnO 박막 증착 및 온도가 ZnO 결정의 성장에 미치는 영향 = ZnO film deposition on aluminum bottom electrode for FBAR filter applications and effects of deposition temperature on ZnO crystal growth / 윤기완, 임문혁, 채동규, Mai Linh
형태사항 p. 255-262; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국해양정보통신학회논문지. 한국해양정보통신학회. Vol.7 No.2(2003년 4월), p. 255-262 7:2<255 상세보기 ISSN 1226-6981
저자: 윤기완, 한국정보통신대학교
저자: 임문혁, 한국정보통신대학교
저자: 채동규, 한국정보통신대학교
저자: Mai Linh, 한국정보통신대학교
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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