기사
비질량분리형 이온빔증착법에 의한 ULSI 금속배선용 구리박막에 관한 특성연구 = Fundamental study of Cu thin films for ULSI metallization by non-mass separated ion beam deposition method
표제/저자사항 비질량분리형 이온빔증착법에 의한 ULSI 금속배선용 구리박막에 관한 특성연구 = Fundamental study of Cu thin films for ULSI metallization by non-mass separated ion beam deposition method / 임재원, Minoru Isshiki
형태사항 p. 525-530; 30 cm
주기사항 수록자료: 대한금속·재료학회지. 대한금속.재료학회. 41권 8호(2003년 8월), p. 525-530 41:8<525 상세보기 ISSN 1738-8228
저자: 임재원, 동북대학 다원물질과학연구소
저자: Minoru Isshiki, 동북대학 다원물질과학연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로