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Deep UV 마이크로 리소그라피를 위한 새로운 4-반사경 광학계에 관한 수차해석 = Further analysis of optical aberration of four-mirror optical system for deep UV submicron lithography
표제/저자사항 Deep UV 마이크로 리소그라피를 위한 새로운 4-반사경 광학계에 관한 수차해석 = Further analysis of optical aberration of four-mirror optical system for deep UV submicron lithography / 김종태, 이상수
형태사항 p. 1-8 ; 29 cm
주기사항 수록자료: 한국광학회지. 한국광학회. 4권 1호(1993년 3월), p. 1-8 4:1<1 상세보기 ISSN 1225-6285
저자: 김종태, 한국과학기술원 물리학과
저자: 이상수, 한국과학기술원 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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