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Rf 마그네트론 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 RuO₂ 박막의 특성분석 = Characterization of RuO₂ thin films deposited by Rf magnetron reactive sputtering
표제/저자사항 Rf 마그네트론 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 RuO₂ 박막의 특성분석 = Characterization of RuO₂ thin films deposited by Rf magnetron reactive sputtering / 조호진, 홍석경, 조해석, 양홍근, 김형준
형태사항 p. 544-551 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 5卷 5號(1995년 8월), p. 544-551 5:5<544 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 조호진, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과
저자: 홍석경, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과
저자: 조해석, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과
저자: 양홍근, 삼성전자 반도체 특수사업부 기술개발팀
저자: 김형준, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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