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기계적 damage 활성화 효과에 대한 수소화 및 비수소화 비정질 규소 박막의 고상 결정화 거동 = Behavior of Solid phase crystallizations in mechanical damage induced hydrogenated and non-hydrogenated amorphous silicon thin films
표제/저자사항 기계적 damage 활성화 효과에 대한 수소화 및 비수소화 비정질 규소 박막의 고상 결정화 거동 = Behavior of Solid phase crystallizations in mechanical damage induced hydrogenated and non-hydrogenated amorphous silicon thin films / 김형택, 김영관
형태사항 p. 436-445 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 6권 4호(1996년 4월), p. 436-445 6:4<436 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 김형택, 시립 인천대학교 공과대학 재료공학과
저자: 김영관, 시립 인천대학교 공과대학 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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