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Sputter seeding을 이용한 CVD Cu 박막의 비선택적 증착 및 기판의 영향 = (The)blanket deposition and the sputter seeding effects on substrates of the chemically vapor deposited Cu films
표제/저자사항 Sputter seeding을 이용한 CVD Cu 박막의 비선택적 증착 및 기판의 영향 = (The)blanket deposition and the sputter seeding effects on substrates of the chemically vapor deposited Cu films / 박종만, 김석, 최두진, 고대홍
형태사항 p. 827-835 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 窯業學會誌. 한국요업학회. 35卷 8號(1998년 8월), p. 827-835 35:8<827 상세보기 ISSN 1225-1372
저자: 박종만, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 김석, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 최두진, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 고대홍, 연세대학교 세라믹공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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