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기판 조건에 따른 TiSi₂ 박막의 형성 및 전기적 특성 변화 고찰 = Effects of conditions of silicon substrates on the formation and electrical properties of TiSi₂ thin films
표제/저자사항 기판 조건에 따른 TiSi₂ 박막의 형성 및 전기적 특성 변화 고찰 = Effects of conditions of silicon substrates on the formation and electrical properties of TiSi₂ thin films / 김은하, 고대홍
형태사항 p. 1141-1147 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 窯業學會誌. 한국요업학회. 35卷 11號(1998년 11월), p. 1141-1147 35:11<1141 상세보기 ISSN 1225-1372
저자: 김은하, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 고대홍, 연세대학교 세라믹공학과
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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