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고온 열처리에 따른 Y₂O₃ 박막과 (100) 실리콘 기판간의 계면 반응에 관한 연구 = (The)study on interfacial reactions between Y₂O₃ films and (100) Si substrates
표제/저자사항 고온 열처리에 따른 Y₂O₃ 박막과 (100) 실리콘 기판간의 계면 반응에 관한 연구 = (The)study on interfacial reactions between Y₂O₃ films and (100) Si substrates / 강성관, 김은하, 고대홍, 조만호, 황정남
형태사항 p. 1222-1226 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 窯業學會誌. 한국요업학회. 35卷 11號(1998년 11월), p. 1222-1226 35:11<1222 상세보기 ISSN 1225-1372
저자: 강성관, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 김은하, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 고대홍, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 조만호, 초미세 표면 과학 연구 센터, 연세대학교 물리학과
저자: 황정남, 초미세 표면 과학 연구 센터, 연세대학교 물리학과
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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