일반도서
CMP 웨이퍼 연마
표제/저자사항 CMP 웨이퍼 연마 / 저자: 수리야데바라 바부 ; 역자: 장인배
발행사항 서울 : 씨아이알, 2021
형태사항 xxv, 599 p. : 삽화, 도표 ; 26 cm
주기사항 원저자명: Suryadevara Babu
CMP는 "Chemical Mechanical Planarization"의 약어임
원표제: Advances in chemical mechanical planarization(CMP)
참고문헌과 색인 수록
영어 원작을 한국어로 번역
표준번호/부호 ISBN 9791156109471 93560: \38000
분류기호 한국십진분류법-> 569.4듀이십진분류법-> 621.38152
주제명 반도체[半導體]    웨이퍼(반도체)[wafer]    연마(기계)[硏磨]
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로