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다중 Mult-hole 전극을 이용한 RF Capcitively Coupled Plasma에서의 위치 별 밀도 제어에 관한 연구
표제/저자사항 다중 Mult-hole 전극을 이용한 RF Capcitively Coupled Plasma에서의 위치 별 밀도 제어에 관한 연구 / 이헌수 [1980-] 이윤성 장홍영 [1954-]
발행사항 서울 : 한국진공학회, 2012
형태사항 PDF1 p.
주기사항 본 자료는 초록(요약문)임
수록자료: 제42회 한국진공학회 … 학술대회 2012년 동계 (20120208), p. 176
표준번호/부호 UCI  G701:C-00060364223
분류기호 한국십진분류법-> 554.9405
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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