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질소 가스 분위기에서 증착된 실리콘 질화막의 전기적, 광학적 특성 분석 = Electrical and optical characteristic analysis of silicon nitride film deposited by N<sub>2</sub> ambient
표제/저자사항 질소 가스 분위기에서 증착된 실리콘 질화막의 전기적, 광학적 특성 분석 = Electrical and optical characteristic analysis of silicon nitride film deposited by N<sub>2</sub> ambient / 공대영 정우원 양두환 김선용 이용우 고지수 최병덕 [1964-] 이준신 [1962-]
발행사항 서울 : 한국신.재생에너지학회, 2009
형태사항 PDF1 p.
주기사항 수록자료: 학술대회 논문집-한국신.재생에너지학회 2009년 추계 p. 384-384 ISSN 1976-2550
표준번호/부호 UCI  G701:A-00117893455
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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