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질화붕소 분리층과 소자 전사 기술을 이용한 다목적 초고주파 소자 개발 = Development of extremely high RF multi-purpose device using boron nitride release layer and device transfer technique
표제/저자사항
질화붕소 분리층과 소자 전사 기술을 이용한 다목적 초고주파 소자 개발 = Development of extremely high RF multi-purpose device using boron nitride release layer and device transfer technique / 장성재 연구책임자윤형섭 [1957-] 연구참여자배성범 [1974-] 연구참여자조규준 연구참여자
발행사항
[대전] : ETRI(한국전자통신연구원), 2020
형태사항
주기사항
서지: 참고문헌: p. 66
언어: 영어 요약 있음
언어: 영어 요약 있음
분류기호
한국십진분류법-> 569.63
주제명
소자(기기)[素子] 초고주파[超高周波]
출처
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
