학위논문
f 및 fmax 특성 개선을 위한 SiGe BiCMOS 공정과 라이브러리 개발 = Development of SiGe BiCMOS process and library for increased f and fmax of SiGe BiCMOS
표제/저자사항 f 및 fmax 특성 개선을 위한 SiGe BiCMOS 공정과 라이브러리 개발 = Development of SiGe BiCMOS process and library for increased f and fmax of SiGe BiCMOS / 裵賢哲
발행사항 대전 : 忠南大學校, 2009
형태사항 130 p. : 삽화, 도표 ; 26 cm
주기사항 학위논문(박사) -- 忠南大學校 大學院, 電子工學科 마이크로波 및 光波專攻, 2009
참고문헌: p. 116-125
영어 요약 있음
분류기호 한국십진분류법-> 569.8듀이십진분류법-> 621.38154
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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