학위논문
Process development and evaluation of an alternative gate dielectric and electrode material for the next generation semiconductor = 차세대 반도체용 유전물질 및 전극물질에 대한 공정 개발 및 특성 평가
표제/저자사항 Process development and evaluation of an alternative gate dielectric and electrode material for the next generation semiconductor = 차세대 반도체용 유전물질 및 전극물질에 대한 공정 개발 및 특성 평가 / 金英培
발행사항 서울: 漢陽大學校, 2003
형태사항 xix, 154p.: 삽도; 26cm
주기사항 학위논문(박사) -- 한양대학교 대학원: 무기재료공학과, 2003
분류기호 한국십진분류법-> 530.4듀이십진분류법-> 620.11
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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