국가전거
저자 전거 검색
학위논문
Performance of Hf-based high-k dielectrics and stacked gate oxides for metal-oxide-semiconductor field effect transistor = MOSFET device의 응용을 위한 Hf 기반의 고유전체 및 다층 구조 게이트 절연막에 대한 전기 및 유전 특성 연구
표제/저자사항
Performance of Hf-based high-k dielectrics and stacked gate oxides for metal-oxide-semiconductor field effect transistor = MOSFET device의 응용을 위한 Hf 기반의 고유전체 및 다층 구조 게이트 절연막에 대한 전기 및 유전 특성 연구 / Wonjoon Choi
발행사항
서울: 한양대학교, 2007
형태사항
viii, 102 leaves: ill., charts; 26 cm
주기사항
Thesis(Ph.D.) -- Graduate School, Hanyang Univ., Dept. of Physics, 2007.
Includes bibliographies.
Includes bibliographies.
분류기호
한국십진분류법-> 427.62듀이십진분류법-> 537.622
출처
국립중앙도서관 바로가기
MARC 보기
001KMO201509136
00520150303111639
007ta
008150107s2001 gak 100 kor
0490 ▼lEM6076783▼lEM6076784▼c2▼fSY
05201▼a470▼b15-3
056 ▼a470▼26
08201▼a570▼223
24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
