기사
X선 회절에 의한 SiO₂ / Si 및 poly-Si / SiO₂ / Si계면의 응력측정 분석 = Stress analysis of SiO₂ / Si and poly-Si / SiO₂ / Si interfaces by X-ray diffraction technique
표제/저자사항 X선 회절에 의한 SiO₂ / Si 및 poly-Si / SiO₂ / Si계면의 응력측정 분석 = Stress analysis of SiO₂ / Si and poly-Si / SiO₂ / Si interfaces by X-ray diffraction technique / 임규홍, 김도진
형태사항 p. 12-19: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 論文集-忠南大學校 産業技術硏究所. 忠南大學校. 10卷 1號(1995년 6월), p. 12-19 10:1<12 상세보기 ISSN 1229-5000
저자: 임규홍, 충남대학교 재료공학과
저자: 김도진, 충남대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로