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고압 수증기 내에서 산화막 형성에 관한 연구 = Oxide layer growth in high-pressure steam oxidation
표제/저자사항 고압 수증기 내에서 산화막 형성에 관한 연구 = Oxide layer growth in high-pressure steam oxidation / 박경희, 안순의, 구경완, 왕진석
형태사항 p. 42-46: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 論文集-忠南大學校 産業技術硏究所. 忠南大學校. 15卷 2號(2000년 12월), p. 42-46 15:2<42 상세보기 ISSN 1229-5000
저자: 박경희, 충남대학교 전자공학과 E-MAIL: parkkh75@hanmail.net
저자: 안순의, 충남대학교 전자공학과
저자: 구경완, 영동대학교 정보전자공학부
저자: 왕진석, 충남대학교 전자공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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