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Rf-plasma CVD에 의해 제조된 iron silicide 막의 특성 = (The)characteristics of iron silicide films prepared by rf-plasma CVD
표제/저자사항 Rf-plasma CVD에 의해 제조된 iron silicide 막의 특성 = (The)characteristics of iron silicide films prepared by rf-plasma CVD / 모만진, 김경수, 전법주, 정일현
형태사항 p. 104-107: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 응용화학. 한국공업화학회. 2권 1호(1998년 5월), p. 104-107 2:1<104 상세보기 ISSN 1226-8801
저자: 모만진, 단국대학교 화학공학과
저자: 김경수, 단국대학교 화학공학과
저자: 전법주, 단국대학교 화학공학과
저자: 정일현, 단국대학교 화학공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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