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플라즈마 화학증착법으로 제조한 붕소를 도핑한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 특성 = Characterization of B-doped hydrogenated amorphous silicon films grown by plasma-enhanced chemical-vapor deposition
표제/저자사항 플라즈마 화학증착법으로 제조한 붕소를 도핑한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 특성 = Characterization of B-doped hydrogenated amorphous silicon films grown by plasma-enhanced chemical-vapor deposition / 정우철, 이재신
형태사항 p. 159-170: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 공학연구논문집. 울산대학교 출판부. 28권 1호(1997년 6월), p. 159-170 28:1<159 상세보기 ISSN 1225-3634
저자: 정우철, 울산대학교 재료공학·금속공학부
저자: 이재신, 울산대학교 재료공학·금속공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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