기사
고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 = (A)Study on photoresist stripping using high density oxygen plasma
표제/저자사항 고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 = (A)Study on photoresist stripping using high density oxygen plasma / 정형섭, 이종근, 박세근, 양재균
형태사항 p. 95-100: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.11 no.2(1998년 2월), p. 95-100 11:2<95 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 정형섭, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 이종근 ,인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 박세근, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 양재균, 피에스케이(주) 부설연구소 E-MAIL: sgpark@munhak.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로