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Al 합금막의 식각후 CHF₃처리에 의한 부식억제 효과 = (The)effect of the anti-corrosion by CHF₃treatment after plasma etching of Al alloy films
표제/저자사항 Al 합금막의 식각후 CHF₃처리에 의한 부식억제 효과 = (The)effect of the anti-corrosion by CHF₃treatment after plasma etching of Al alloy films / 김창일, 권광호, 윤용선, 백규하, 남기수, 장의구
형태사항 p. 517-521: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.11 no.7(1998년 7월), p. 517-521 11:7<517 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
저자: 권광호, 한서대학교 전자공학과
저자: 윤용선, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 백규하, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 남기수, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 장의구, 중앙대학교 전자전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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