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S$$F_6$$< / TEX> / Cl₂혼합비에 따른 실리콘 식각 특성 고찰 = (A)study on the silicon etching characteristics in ECR using S$$F_6$$< / TEX> / Cl₂gas mixtures
표제/저자사항 S$$F_6$$< / TEX> / Cl₂혼합비에 따른 실리콘 식각 특성 고찰 = (A)study on the silicon etching characteristics in ECR using S$$F_6$$< / TEX> / Cl₂gas mixtures / 이상균, 강승열, 권광호, 이진호, 조경익, 이형종
형태사항 p. 114-119: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.13 no.2(2000년 2월), p. 114-119 13:2<114 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 이상균, 전남대학교 물리학과 E-MAIL: leesk@chonnam.chonnam.ac.kr
저자: 강승열, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소
저자: 권광호, 한서대학교 전자공학과
저자: 이진호, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소
저자: 조경익, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소
저자: 이형종, 전남대학교 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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