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Ar / CHF₃플라즈마를 이용한 SBT 박막에 대한 식각 메카니즘 연구 = (A)study on etching mechanism of SBT thin film by using Ar / CHF₃plasma
표제/저자사항 Ar / CHF₃플라즈마를 이용한 SBT 박막에 대한 식각 메카니즘 연구 = (A)study on etching mechanism of SBT thin film by using Ar / CHF₃plasma / 서정우, 이원재, 유병곤, 장의구, 김창일
형태사항 p. 183-187: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.13 no.3(2000년 3월), p. 183-187 13:3<183 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 서정우, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 이원재, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소
저자: 유병곤, 한국전자통신연구원 회로소자기술연구소
저자: 장의구, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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