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Attenuated phase shift mask에 광 근접 효과 보정을 적용한 고립 패턴의 해상 한계 분석 = Resolution limit analysis of isolated patterns using optical proximity correction method with attenuated phase shift mask
표제/저자사항 Attenuated phase shift mask에 광 근접 효과 보정을 적용한 고립 패턴의 해상 한계 분석 = Resolution limit analysis of isolated patterns using optical proximity correction method with attenuated phase shift mask / 김종선, 오용호, 임성우, 고춘수, 이재철
형태사항 p. 901-907: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.13 no.11(2000년 11월), p. 901-907 13:11<901 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 김종선, 원광대학교 물리반도체학부 E-MAIL: contra74@popsmail.com
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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