기사
새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 dry etching과 기존의 wet etching 기술과의 비교 = Comparison of the existing wet etching and the dry etching with the ICP process method
표제/저자사항 새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 dry etching과 기존의 wet etching 기술과의 비교 = Comparison of the existing wet etching and the dry etching with the ICP process method / 강형곤, 임성훈, 임연호, 한윤봉, 황종선, 한병성
형태사항 p. 158-162: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.14 no.2(2001년 2월), p. 158-162 14:2<158 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 강형곤, 전북대학교 전기공학과 E-MAIL: joshuah@shinbiro.com
저자: 임성훈, 전북대학교 전기공학과
저자: 임연호, 전북대학교 화학공학과
저자: 한윤봉, 전북대학교 화학공학과
저자: 황종선, 전남도립담양대학교 전기전자공학부
저자: 한병성, 전북대학교 전기공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로