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유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 damage 개선 = Recovery of etching damage of etched PZT thin film by inductively coupled plasma
표제/저자사항 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 damage 개선 = Recovery of etching damage of etched PZT thin film by inductively coupled plasma / 강명구, 김경태, 김창일
형태사항 p. 551-556: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.14 no.7(2001년 7월), p. 551-556 14:7<551 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 강명구, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김경태, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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