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RF magnetron 스퍼터링법으로 성장시킨 Ba(Z$$r_{0.2}$$< / TEX>T$$i_{0.8}$$< / TEX>)O₃ 박막의 특성 = Preparation and properties of Ba(Z$$r_{0.2}$$< / TEX>T$$i_{0.8}$$< / TEX>)O₃ thin films grown by RF magnetron sputtering method
표제/저자사항 RF magnetron 스퍼터링법으로 성장시킨 Ba(Z$$r_{0.2}$$< / TEX>T$$i_{0.8}$$< / TEX>)O₃ 박막의 특성 = Preparation and properties of Ba(Z$$r_{0.2}$$< / TEX>T$$i_{0.8}$$< / TEX>)O₃ thin films grown by RF magnetron sputtering method / 최원석, 장범식, 김진철, 박태석, 이준신, 홍병유
형태사항 p. 567-571: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.14 no.7(2001년 7월), p. 567-571 14:7<567 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 최원석, 성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 E-MAIL: feelws@mail.skku.ac.kr
저자: 장범식, 성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부
저자: 김진철, 삼성전기 기술총괄
저자: 박태석, 삼성전기 기술총괄
저자: 이준신, 성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부
저자: 홍병유, 성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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