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유도 결합 플라즈마를 이용한 CeO₂ 박막의 식각 메카니즘 = (The)etching mechanism of CeO₂ thin films using inductively coupled plasma
표제/저자사항 유도 결합 플라즈마를 이용한 CeO₂ 박막의 식각 메카니즘 = (The)etching mechanism of CeO₂ thin films using inductively coupled plasma / 오창석, 김창일
형태사항 p. 695-699: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.14 no.9(2001년 9월), p. 695-699 14:9<695 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 오창석, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
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001KMO201509136
00520150303111639
007ta
008150107s2001 gak 100 kor
0490 ▼lEM6076783▼lEM6076784▼c2▼fSY
05201▼a470▼b15-3
056 ▼a470▼26
08201▼a570▼223
24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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