저자 전거 검색

공유
인쇄
공유
기사
CI₂ / CF₄ 플라즈마에 Ar, O₂ 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 = Reduce of etching damage of PZT thin films with addition of Ar and O₂ in CI₂ / CF₄ plasma
표제/저자사항 CI₂ / CF₄ 플라즈마에 Ar, O₂ 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 = Reduce of etching damage of PZT thin films with addition of Ar and O₂ in CI₂ / CF₄ plasma / 강명구, 김경태, 김창일
형태사항 p. 319-324: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.15 no.4(2002년 4월), p. 319-324 15:4<319 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 강명구, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김경태, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
KORMARC 보기 목록

MARC 보기

MARC 다운로드
001KMO201509136
00520150303111639
007ta
008150107s2001 gak 100 kor
0490 ▼lEM6076783▼lEM6076784▼c2▼fSY
05201▼a470▼b15-3
056 ▼a470▼26
08201▼a570▼223
24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로