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Ar / CF₄ / Cl₂ 플라즈마에 의한 CeO₂ 박막의 식각 특성 연구 = (A)study on etch characteristics of CeO₂ thin film in an Ar / CF₄ / Cl₂ plasma
표제/저자사항 Ar / CF₄ / Cl₂ 플라즈마에 의한 CeO₂ 박막의 식각 특성 연구 = (A)study on etch characteristics of CeO₂ thin film in an Ar / CF₄ / Cl₂ plasma / 장윤성, 김동표, 김창일, 장의구
형태사항 p. 388-392: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.15 no.5(2002년 5월), p. 388-392 15:5<388 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 장윤성, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
저자: 김동표, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 장의구, 중앙대학교 전자전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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