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CF₄ / O₂ gas chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응 = Surface reaction of Ru thin films etched in CF₄ / O₂ gas chemistry
표제/저자사항 CF₄ / O₂ gas chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응 = Surface reaction of Ru thin films etched in CF₄ / O₂ gas chemistry / 임규태, 김동표, 김경태, 김창일, 최장현, 송준태
형태사항 p. 1016-1020: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.15 no.12(2002년 12월), p. 1016-1020 15:12<1016 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 임규태, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김동표, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김경태, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
저자: 최장현, 성균관대학교 정보통신공학부
저자: 송준태, 성균관대학교 정보통신공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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