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플라즈마 Silane 환원 반응에 의한 텅스텐 박막의 증착 = Tungsten thin films deposited by plasma silane reduction process
표제/저자사항 플라즈마 Silane 환원 반응에 의한 텅스텐 박막의 증착 = Tungsten thin films deposited by plasma silane reduction process / 洪鍾聲, 金龍泰, 閔碩基, 洪致裕
형태사항 p. 44-51: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌.A. 大韓電子工學會. 28卷 2號(1991년 2월), p. 44-51 28:2<44 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 홍종성, 정회원, 한국과학기술연구원 반도체재료연구실, 동국대학교 물리학과
저자: 김용태, 정회원, 한국과학기술연구원 반도체재료연구실
저자: 민석기, 정회원, 한국과학기술연구원 반도체재료연구실
저자: 홍치유, 정회원, 동국대학교 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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