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이온 도핑 방법에 의한 실리콘 박막의 도핑 연구 = (A)study on Ion shower doping in si thin film
표제/저자사항 이온 도핑 방법에 의한 실리콘 박막의 도핑 연구 = (A)study on Ion shower doping in si thin film / 柳洵城, 田正牧, 李景夏, 文炳淵, 張震
형태사항 p. 106-112: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. A. 大韓電子工學會. 31卷 5號(1994년 5월), p. 106-112 31:5<106 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 류순성, 경희대학교 물리학과 및 기초과학연구소
저자: 전정목, 경희대학교 물리학과 및 기초과학연구소
저자: 이경하, 경희대학교 물리학과 및 기초과학연구소
저자: 문병연, 경희대학교 물리학과 및 기초과학연구소
저자: 장진, 경희대학교 물리학과 및 기초과학연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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